斗技大赛BOSS攻略-4：修订间差异
更新日期： 2024-07-22 最新编辑：沐沐汐汐
（创建页面，内容为“=== 瓦尔堪技能顺序表 === {| class="wikitable w-100" |+ 瓦尔堪技能出招顺序表 |- ! style="width:10%" | 循环 !! style="width:30%" | >35% !! style="width:30%" | =35% !! style="width:30%" | <35% |- ! 0 | - || - || '''无念无想'''<br/>当HP低于35%时在下一回合发动。给予自身属性攻击提升的效果（永久），并{{字体颜色|红|更改行动模式}} |- ! 1 | '''光明魔法（单体）II'''<br/>对我方单体施以光…”） |
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=== | === 利·杜技能顺序表 === | ||
{| class="wikitable w-100" | {| class="wikitable w-100" | ||
|+ | |+ 利·杜技能出招顺序表 | ||
|- | |- | ||
! style="width:10%" | 循环 !! style="width:30%" | >35% !! style="width:30%" | =35% !! style="width:30%" | <35% | ! style="width:10%" | 循环 !! style="width:30%" | >35% !! style="width:30%" | =35% !! style="width:30%" | <35% | ||
2024年7月19日 (五) 10:22的版本
利·杜技能顺序表
| 循环 | >35% | =35% | <35% |
|---|---|---|---|
| 0 | - | - | 无念无想 当HP低于35%时在下一回合发动。给予自身属性攻击提升的效果（永久），并更改行动模式 |
| 1 | 光明魔法（单体）II 对我方单体施以光属性攻击 |
光属性破坏（全体）III 赋予我方前卫全体光耐性下降的效果（3回合） |
光明魔法(全体)Ⅲ 随机3次光属性攻击 |
| 2 | 双重打击 对我方单体施以2次书物理攻击 |
光明魔法（全体）III 对我方前卫全体施以强力的光属性攻击 |
摆出很大架势 下一回合使用「特大光明魔法(单体)」 |
| 3 | 元素粉碎 使我方单体受到属攻和属防下降效果（3回合） |
大乱光明魔法 随机对我方单体施以3次光属性攻击，每次攻击赋予光抗性下降的效果（2回合） |
特大光明魔法(单体) 对我方单体施以3次光属性攻击 |
| 4 | 光明魔法（全体）II 对我方前卫全体施以光属性攻击 |
双重打击 对我方单体施以2次书物理攻击 |
光明魔法(全体)Ⅲ 对我方前卫全体施以强力的光属性攻击 |
| 5 | 大乱光明魔法 随机对我方单体施以3次光属性攻击，每次攻击赋予光抗性下降的效果（2回合） |
元素粉碎 使我方单体受到属攻和属防下降效果（3回合） |
光明魔法(全体)Ⅲ 对我方前卫全体施以强力的光属性攻击 |
| 6 | - | 光明魔法（全体）II 对我方前卫全体施以光属性攻击 |
- |
| 7 | - | 光明魔法（单体）II 对我方单体施以光属性攻击 |
- |
※ 元素粉碎无切换位置效果，之前有误，抱歉。